Bolsa de PD em Plasmas Frios, Filmes Finos, Células Fotoeletroquímicas

Post doctoral fellowship in Cold Plasmas, Thin Films, Photoelectrochemical Cells

• Resumo Summary

  Inscrições abertas para uma vaga de pesquisador, com bolsa de Pós-Doutorado de dois anos, para desenvolver pesquisa financiada pela FAPESP-PRONEX junto ao Laboratório de Nanotecnologia e Processos a Plasma (NanotecPlasma) do Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento da Univap, São José dos Campos, SP. 
  
  A pesquisa é parte de um "Núcleo de excelência em física e aplicações de plasma" estabelecido entre as instituições: Instituto de Física da Universidade de São Paulo, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, e Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento da Universidade do Vale do Paraíba. 
  
  O programa de pesquisa do Núcleo estará focalizado em dois temas principais, a saber:
   
  (i) transporte anômalo e efeito de ondas de Alfvén em plasmas termonucleares e 
  (ii) aplicações de plasmas no processamento de materiais e combustão assistida. 
  
  O projeto de PD busca, ao final, estabelecer uma nova linha de pesquisa no laboratório na área de geração de energia limpa utilizando células fotoeletroquímicas destinadas a geração de energia elétrica e na foto-eletrólise da água para geração de hidrogênio.
   
  A vaga requer candidatos com título de doutor em engenharia de materiais, física ou áreas afins, com experiência em deposição de materiais por plasmas frios e caracterização de filmes finos. O projeto é divido nas seguintes etapas a serem executadas pelo candidato: 
  
  1) estudo do processo de deposição a plasma e caracterização de filmes finos de TiOxNy e Cu2O, bem como sua aplicação em eletrodos de células fotoeletroquímicas aplicadas para o processo de foto-eletrólise da água; 
  
  2) montagem e selagem dos eletrodos, efetivando a construção da célula fotoeletroquímica; 
  
  3) caracterização da eficiência de conversão da energia solar para hidrogênio das células fabricadas. 
  
  Adicionalmente, o candidato deverá participar da rotina do Laboratório NanotecPlasma, colaborar na elaboração de projetos e redação de manuscritos. A interação com estudantes de graduação e pós-graduação também representa uma das suas atividades. 
  
  A vaga está aberta a brasileiros e estrangeiros. O selecionado receberá Bolsa de Pós-Doutorado (PD) da FAPESP no valor de R$ 6.143,40 mensais sem deduções, Reserva Técnica e Auxílio Instalação (desde que o bolsista atenda às condições previstas nas normas da FAPESP, vide site www.fapesp.br/270). 
  
  A Reserva Técnica de Bolsa de PD equivale a 15% do valor anual da bolsa e tem o objetivo de atender a despesas imprevistas e diretamente relacionadas à atividade de pesquisa.
   
  Interessados devem enviar para seleção, até o dia 20 de novembro de 2014, carta de manifestação de motivação/interesse, curriculum vitae e duas cartas de recomendação (formato PDF), ao Dr. Homero Santiago Maciel (homero@univap.br), pesquisador responsável pelo Projeto na Univap. 
  
  Resultado será divulgado até o dia 21 de novembro de 2014.

  Registration opens for a scholarship researcher postdoctoral (1 year) funded by FAPESP-PRONEX at the Plasma Processes and Nanotecnology (NanotecPlasma) Laboratory of the Institute of Research and Development at Univap, São José dos Campos, SP. 
  
  The present research will be carried by the "Center of excellence in plasma physics and applications" that includes the following institutions: Physical Institute of the University of São Paulo, Technological Institute of Aeronautics, and Institute of Research and Development of the University of Paraíba Valley. 
  
  The study is focused in two main themes: 
  
  (i) anomalous transport and Alfvén waves effect in thermonuclear plasma and 
  (ii) plasma applications in materials processing and assisted combustion. 
  
  The PD project will establish a new research line in the area of clean energy generation, using photoelectrochemical cells to the generation of electrical energy and photo-electrolysis of water, in order to generate hydrogen. 
  
  The post requires candidates with a doctoral degree in materials engineering, physics or related areas, with experience in materials deposition by cold plasmas and characterization of thin films. The project is divided in three stages: 
  
  1) study of the plasma deposition process and characterization of thin films (TiOxNy and Cu2O) and its application in photoelectrochemical cell electrodes applied to the photo-electrolysis process of water, 
  
  2) assembling and sealing of electrodes, effecting the construction of a photoelectrochemical cell, 
  
  3) characterization of the efficiency conversion of solar energy into hydrogen to the produced cells. 
  
  Additionally, the candidate must participate of actvities in the NanotecPlasma laboratory, collaborate in projects development and manuscripts. The interaction of the undergraduate and graduate in the research also represents one of their activities. 
  
  The post is open to Brazilians and foreigners. The selected cadidate will receive a Post-Doctoral scholarship (PD) of FAPESP in the amount of R$ 6,143.40 per month before deductions, Technical Assistance and Reserve Installation (where for this last, please see the conditions specified in the rules of FAPESP at the website www.fapesp.br/en/5427). 
  
  A Technical Reserve Scholarship PD equals 15% of the annual scholarship and to be applied to expenses directly related to research activity. 
  
  Interested parties should send for selection, until November 20, 2014, letter of expression of motivation/interest, curriculum vitae and two letters of recommendation (PDF format) to Dr. Homero Santiago Maciel (homero@univap.br), the responsible researcher by the project at Univap. 
  
  Results will be announced until November 21, 2014.
  
  More information about the fellowship is at: www.fapesp.br/en/5427.